系列概述 各品级描述 技术参数 镀覆概述 应用推荐

系列概述

GMP系列超精金刚石微粉选取优质稳定的金刚石原料,在洁净车间,采用现代化的生产工艺制得而成,产品纯度高、形状统一、粒度分布集中。
主要应用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、光学玻璃、金属和复合材料的切割、磨削、研磨、抛光,也可以应用于金刚石复合片的制造。


质量控制体系-[RESIPC]

l  原材料               l  环境控制                 l  表面洁净

l  杂质含量            l  颗粒尺寸                 l  颗粒形状   
     

image.png  image.png



GMP-S.jpg

切割工具专用微粉GMP-S系列

单晶微粉,颗粒形状三维块状,具有尖锐棱角,形状统一,粒度分布窄,粒度控制优异。 


GMP-M.jpg

金属结合剂工具专用微粉GMP-M系列

单晶微粉,形状三维块状,高纯净度可以避免晶体在烧结时内部产生膨胀,提高金刚石颗粒机械强度和形状保持力,尤其是在成型磨时,优良的机械强度可以使颗粒具有很强的抗冲击性能,从而延长使用寿命。



GMP-MG.jpg

GMP-MG原生金刚石微粉

原生金刚石微粉,未经过破碎,具有很完整的晶型,强度较高,热冲击热性好,表面纯净度高,粒度分布比较集中。


GMP-R.jpg

树脂结合剂工具专用微粉GMP-R系列

形状不规则,具有尖锐的棱角,在磨削过程中易自锐,提高磨削效率。表面洁净度高,可以实现金刚石与树脂结合剂良好的结合,延长工具的使用寿命 。


GMP-V.jpg

陶瓷结合剂工具专用微粉GMP-V系列

多棱角脆性单晶,自锐性能良好,又具有一定韧性。可与陶瓷结合剂良好浸润。实现高效磨削。

 


GMP-LP.jpg

研磨抛光专用微粉GMP-LP系列

GMP-LP1产品特性:单晶结构,纯净度较高,颗粒形状等积型,粒度分布范围窄。

GMP-LP2产品特性:多晶结构,表面有很多细微刃口,较好的形状一致性,优越的自锐性,粒度分布范围较窄。


GMP-PCD.jpg

合成PCD专用微粉GMP-PCD系列

三维等积形,表面洁净度高。表面离子控制使烧结时结合力加强,减少杂质对烧结质量的影响。有效控制形状的统一性及晶体的机械强度,使PCD产品烧结时的稳定性提高。 


GMP-Y.jpg

GMP-Y 浑圆金刚石微粉

表面粗糙,形状为球形无棱角,较高的纯净度,表面又具有无数的细微刃口,其形状浑圆无棱角在磨削过程中可以提高精度。


金刚石微粉可供粒度


WFLD02.png

镀覆概述

GMP微粉镀上特有金属后,不仅可以提高金刚石的强度和金刚石与结合剂的把持力,
还可以有效防止金刚石在使用过程中被氧化和石墨化。
特别是在树脂结合剂工具中,可以有效减缓加工过程中传热对树脂工件的烧伤,从而延长工具使用寿命。

GMP-Ti 产品特性:

镀层紧密,无团聚粘连,
保护金刚石在烧结过程中不被熔碳性结合剂腐蚀,提高与结合剂的把持力。


可供镀覆如下:
WFLD011.png

备注: 镀覆及增重范围可以根据客户要求定制。



应用推荐

u用于金刚石划片刀,切割玻璃或晶圆时比较锋利并减少崩口产生,无论是烧结还是电镀可提高金刚石与结合剂之间的结合力,延长工具使用寿命。
u用于金刚石线锯切割硅片时,张力变化小,减少断线概率,棱角尖锐可以实现快速切割。
u用其制作成研磨膏及抛光悬浮液等,在研磨抛光加工过程中,锋利度较高,无划伤,可以提高工件表面的加工精度。
u用于金刚石聚晶、聚晶拉丝模、金刚石复合片等。

例如: